光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。通例镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃)；而较先进的技能，如离子辅助沉积(IAD)可在室温下举行。IAD工艺不但生产比通例镀膜工艺具有更好物理特性的薄膜，而且可以应用于塑料制成的基底。薄膜沉积的传统要领一直是热蒸发，或接纳电阻加热蒸起源或接纳电子束蒸起源。薄膜特性主要决定于沉积原子的能量，传统蒸发中原子的能量仅约0.1eV。IAD沉积导致电离化蒸汽的直接沉积而且给正在生长的膜增长活化能，通常为50eV量级。离子源将束流从离子枪指向基底外貌和正在生长的薄膜来改善传统电子束蒸发的薄膜特性。

薄膜的光学性子，如折射率、吸收和激光损伤阈值，主要依赖于膜层的显微结构。薄膜质料、残余气压和基底温度都可能影响薄膜的显微结构。如果蒸发沉积的原子在基底外貌的迁移率低，则薄膜会含有微孔。当薄膜袒露于湿润的空气时，这些微孔渐渐被水汽所添补。

添补密度界说为薄膜固体部门的体积与薄膜的总体积(包括空隙和微孔)之比。对于光学薄膜，添补密度通常为0.75～1.0，大部门为0.85～0.95，很少到达1.0。小于l的添补密度使所蒸发质料的折射率低于其块料的折射率。在沉积历程中，每一层的厚度均由光学或石英晶体监控。这两种技能各有优缺点，这里不作讨论。其配合点是质料蒸发时它们均在真空中使用，因而，折射率是蒸发质料在真空吸料机中的折射率，而不是袒露于湿润空气中的质料折射率。薄膜吸收的潮气取代微孔和空隙，造成薄膜的折射率升高。由于薄膜的物理厚度保持稳定，这种折射率升高伴有相应的光学厚度的增长，反过来造成薄膜光谱特性向长波偏向的漂移。为了减小由膜层内微孔的体积和数目所引起的这种光谱漂移，接纳高能离子以将其动量通报给正在蒸发的质料原子，从而大大增长质料原子在基底外貌处凝聚期间的迁移率。